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반도체 화학 소재에 주력한다
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CMP 후 세정제
제품 우위
- TMAH 화학물질 없음
- PH값: 11~13
설명
• CMP 후세척제는 CMP(화학기계연마)를 제거해 웨이퍼에 남은 금속, 유기잔류물, 펄프, 기타 불순물용 세척제다.
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